Hệ thống lắng đọnglớp nguyên tử Phoenix

1. Giới thiệu

• Công nghệ lắng đọng lớp nguyên tử được ứng dụng rộng rãi trong nghiên cứu công nghệ vật liệu và bán dẫn. Giải pháp tối ưu hóa kích thước vật liệu, mở ra đột phá cho các ngành công nghiệp: năng lượng, quang học, điện tử, cấu trúc nano, y sinh…
• Nguyên tắc của công nghệ lắng đọng lớp nguyên tử là một phương pháp lắng đọng hợp hóa học CVD (chemical vapor dpossiton) dưới dạng các phản ứng tiền chất trong 2 bán phản ứng, vì vậy, ALD là phương pháp tạo màng tự giới hạn, có thể khống chế màng chính xác.
• Thiết bị công nghệ lắng đọng nguyên tử gồm Savannah, Fiji, Phoenix, không những có thể làm lắng đọng được các lớp phủ không hoàn toàn đồng nhất về độ dày mà còn phủ ngay cả vào sâu bên trong các lỗ trống, các rãnh và phần khuyết. Khả năng xử lý các tiền chất được sử dụng lắng đọng phủ màng gồm khí lỏng và rắn.

2. Ưu điểm vượt trội

• Khống chế độ dày màng một các chính xác dựa vào số chu kì lắng đọng
• Khống chế hợp chất ở mức độ nguyên tử
• Màng có độ đồng đều và xếp chặt cao, đồng nhất và không lỗ rỗng.
• Nhiệt độ quá trình thấp
• Khả năng tái lập cao
• Phủ trên diện tích rộng
• Tốc độ phủ rất chậm,
• Tích hợp nhiều chọn lựa cho việc nghiên cứu đối tượng
• Hỗ trợ tối đa trong nghiên cứu và ứng dụng cụ thể
• Tiết kiệm chi phí